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詳細內容:采用大型平面靶技術,可以在玻璃上面鍍制單質金屬膜、復合膜、電磁屏蔽膜、ITO膜,可以根據需要配置多個真空室,每個真空室根據需要配置不同的靶材,室與室之間采用獨立的真空抽氣系統,可以隨意調節各個真空室的氣體參數,鍍制不同的膜層,可以滿足工業化連續生產的需要。廣泛應用于玻璃、PMMA、電子屏蔽等各種鍍膜領域。 技術參數: 鍍膜產品最大尺寸:1200*2400等規格,可根據客戶的具體需求設計而設計制造。 夾具方式:連續式平面移動方式。 各個機型均可選擇手動、自動控制系統。
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